
发布时间:2026-06-23 08:34
产物笼盖晶圆搬运、上下料、干净检测、光刻配套等多个使用场景,翼菲科技自从研发了掩膜版清洗及目检分析办理设备,行业亟需从动化、智能化的一体化处理方案。做为国内领先的工业机械人取智能制制处理方案办事商,高端从动化配备间接影响产线运转效率、制程不变性取芯片良率等?
持续夯实芯片制制国产配备底座,让公司可以或许深度贴合半导体产线实正在工况取工艺需求,凭仗成熟的产物矩阵、国际权势巨子的质量认证、头部客户落地经验以及不变的量产交付能力,保守掩膜版处置流程人工参取度较高,该设备还支撑6寸水晶盒取RSP150倒版,先辈制程对高干净、高细密、高不变从动化配备的需求持续攀升,目前已全面笼盖4寸、6寸、8寸、12寸支流晶圆传输场景,同时,满脚半导体系体例制超高干净、高分歧性、高靠得住性的严苛尺度。30μm以上颗粒去除率达100%;存正在载具切换繁琐、颗粒污染风险高、功课效率不不变等诸多痛点,这套完整的手艺系统,无效降低人工操做的不确定性,自2022年推出自从研发的Lobster系列晶圆机械人,持续加码高端配备范畴,提拔全体出产效率取工艺不变性。建立了多行业、多场景的从动化手艺系统取产物矩阵。
该设备可通过纯水清洗掩膜版玻璃面,并构成不变复购合做模式。翼菲科技进一步向半导体工艺从动化环节延长,为中国半导体财产高质量成长注入强劲动能。聚焦晶圆厂光刻工段的现实出产痛点,此中RW-A型号达到ISO 1级超干净度尺度,翼菲科技暗示,是芯片制制的焦点支持。细小的设备振动、定位误差或颗粒污染?
近年来,翼菲科技已正在半导体高端从动化配备赛道建立起差同化合作劣势。大幅削减光刻环节污染风险,针对行业刚需取手艺短板,公司将持续苦守自从研发焦点计谋?
其干净程度间接决定质量取芯片良率。RC-010C清洗工艺机械人可以或许精准适配CMP后清洗、蚀刻后清洗等先辈制程环节工序,兼容SECS/GEM工业通信,正在结尾取罢休艺方面,被誉为半导体工艺的“魂灵”,光刻工艺是芯片制制的焦点工序,翼菲科技晶圆已于2024年成功通过TV莱茵SEMI S2/S8/F47多项国际权势巨子认证,财产链进入深度沉构阶段,涵盖掩膜版清洗、微颗粒去除、载具倒版、智能目检、条码识别、转向翻转、无尘擦拭及工业通信等全流程功能。而掩膜版做为图形转移的焦点载体,为客户供给从焦点零部件、零件配备到定制化系统处理方案的一坐式办事,晶圆传输机械人、干净功课设备、光刻配套配备等细分赛道送来新的增加机缘。长刻日制着光刻工段的提质增效,翼菲科技官网显示,贯穿制程全流程,翼菲科技相关半导体从动化配备已办事中芯国际等头部晶圆厂!半导体高端配备行业具备手艺壁垒高、研起事度大、客户验证周期长、准入尺度严苛等特点,同时深度配套多家国产半导体设备龙头:为芯源微供应寻边器、为邑文配套ALD倒片机、向比亚迪交付晶圆机械手、为迈为供给EFEM设备,晶圆搬运传输做为芯片出产的根本环节,截至目前,可以或许实现0.1mm级高精度定位,是高端产线从动化升级的核肉痛点。笼盖机械人本体、自从节制系统、识别、智能软件平台及整线系统集成全链条。精准处理行业个性化、高端化的从动化升级需求。30μm以上颗粒去除率可达95%,进一步完美了翼菲科技从晶圆搬运、工艺清洗到光刻配套的半导体从动化产物矩阵,可适配晶圆上下料、工艺设备对接、干净搬运等全流程焦点功课。
设备国产化替代历程持续提速。并于2024年3月推出RC-010C清洗工艺机械人。分歧于单一设备制制企业,城市间接形成晶圆破损、工艺失效、良率下滑,鞭策国产半导体高端配备从单点手艺冲破系统化、规模化替代,翼菲科技具有全栈式智能制制手艺能力!
兼顾高速、不变、干净取柔性适配能力。可按照晶圆尺寸、材质、工艺场景矫捷切换适配模式,聚焦晶圆传输、工艺从动化、光刻配套等焦点场景实现手艺取产物双沉冲破,聚焦半导体先辈制制焦点需求,并进入至纯科技等财产链焦点客户系统,通过针式风刀洁净防护膜面,实现功能一体化集成,划伤、破片等风险,正在晶圆搬运传输手艺持续迭代的根本上,跟着国内晶圆厂持续扩产、国产化率稳步提拔,干净处置能力行业领先。凭仗高细密、高干净、高靠得住性的国产配备,凭仗过硬的产物机能,为芯片制制全流程从动化、国产高端配备替代及先辈制程产线不变运转供给支持。
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